UV-Lampen

ZeitMit der rasanten Entwicklung der optoelektronischen Industrie, Der Reinigungsprozess wird bei optoelektronischen Produkten immer wichtiger. Sehr oft, Zu diesem Zweck werden UV-Lampen verwendet. Der Einfluss der Reinigung auf die Qualität, Auch die Präzision und Optik der Produkte wird immer höher.

Derzeit, Die im Ausland weit verbreitete Reinigungsmethode ist die Niederdruck-Quecksilberlampe, Dadurch kann die durch die Verwendung organischer Lösungsmittel verursachte Verschmutzung vermieden und der Reinigungsprozess verkürzt werden.

UV-Lampen, Funktionsprinzip:

Durch die lichtempfindliche Oxidation organischer Verbindungen werden organische Substanzen entfernt, die an der Oberfläche des Materials haften, und die Oberfläche des Materials erreichen kann "atomar sauber" nach leichter Reinigung. Genauer gesagt: Die UV-Lichtquelle sendet Lichtwellen von 185 nm und 254 nm aus, mit hoher Energie, wenn diese Photonen auf die Oberfläche des zu reinigenden Objekts treffen, Die meisten Kohlenwasserstoffe haben ein hohes Absorptionsvermögen für ultraviolettes Licht von 185 nm, Sie absorbieren die Energie von ultraviolettem Licht von 185 nm. Sie zerfallen in Ionen, freie Atome, angeregte Moleküle, und Neutronen.

Sauerstoffmoleküle in der Luft erzeugen auch Ozon und atomaren Sauerstoff, nachdem sie ultraviolette Strahlung absorbiert haben 185 nm. Ozon weist außerdem eine starke Absorption ultravioletter Strahlung auf 254 nm, und Ozon wird in atomaren Sauerstoff und Sauerstoff zerlegt.

Darunter, Atomsauerstoff ist äußerst aktiv, unter seiner Wirkung, Durch die Zersetzung von Kohlenstoff und Kohlenwasserstoffen auf der Oberfläche des Objekts können sich flüchtige Gase bilden: Kohlendioxid und Wasserdampf treten aus der Oberfläche aus, Dadurch werden Kohlenstoff und organische Schadstoffe, die an der Oberfläche des Objekts haften, vollständig entfernt.

UV-Lampen, Anwendung:

• Flüssigkristallanzeigen;
• Halbleiter-Siliziumwafer;
• Integrierte Schaltkreise;
• Hochpräzise Leiterplatten;
• Optische Instrumente;
• Quarzkristalle;
• Dichtungstechnik;
• Metallische Materialien mit Oxidfilm usw

UV-Lampen, Hauptanwendung

• Optisches Glas
• Chromplatten
• Polierter Quarzkristall
• Siliziumwafer und Metall mit Oxidfilm für Präzisionsreinigung

Es dient der Reinigung:

• Organischer Schmutz
• Menschlicher Talg
• Kosmetische Öle
• Additive aus Harzen und Polyimiden
• Paraffin
• Kolophonium
• Schmieröl

Auch diese UV-Quelle weist die Eigenschaften einer UV-Modifikation auf (Veränderung der UV-Oberflächenqualität) während des LCD-Herstellungsprozesses.

Derzeit, im Produktionsprozess von STN-Flüssigkristallanzeigen, Es wird hauptsächlich in der Filmverarbeitungstechnik eingesetzt, Dies ist sehr effektiv bei der Verbesserung des engen Kontakts zwischen Film und Film, wie ITO-Film und lichtempfindliche Filmschicht, TOP-Beschichtung und PI-Beschichtung. Im R&D-Abteilung, Auch UV-modifizierte Kunststoffe können für die Nanotechnologieforschung eingesetzt werden, Das Produkt kann unter Einwirkung von ultraviolettem Licht zu chemischen Reaktionen führen, so dass die Oberflächeneigenschaften des Produkts verändert werden.

Während der Produktion von STN-LCD, Farbfilter und OLED-Display, Manche Prozessanlagen verändern die Oberflächeneigenschaften eindrucksvoll. Im Produktionsprozess von STN-LCD, Farbfilter und OLED, Einige Prozessgeräte sind recht ähnlich, Der Unterschied besteht darin, dass die Anforderungen an den Produktionsprozess unterschiedlich sind.

Mit der Verbesserung der Produktlinie und des Farbverhältnisses, Die Anforderungen der LCD-Industrie an den Produktionsprozess steigen ständig, und es besteht eine Nachfrage danach "Damit Arbeitnehmer ihre Arbeit gut erledigen können, müssen sie zunächst von ihrem Werkzeug profitieren", Daher wird lediglich die Leistung der Ausrüstung ständig verbessert, um die Qualität und Effizienz der Produktion zu verbessern.

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